碳化硅是一种硬度高、化学稳定性好的材料，在对其进行研磨时需要特定的研磨仪以确保良好的研磨效果。以下是一些可用于碳化硅样品研磨的研磨仪：

一、实验室振动磨机

  测试是在具有低振动频率（14Hz）的实验室振动磨机中进行的，并定期进行操作。碳化硅的研磨过程是在空气环境中在带有钢衬的室内进行的，研磨介质为钢球。这种研磨仪可用于不同类型的碳化硅研磨，如 SiC-A 进料的晶粒尺寸为 0 - 10 毫米，SiC-B 晶粒为 0 - 1.6 毫米，可实现特定的技术目标，如获得 d₅₀小于 15μm 的干磨 SiC-A 粉，对于 d₅₀小于 3μm 且 BET 比表面积大于 3m²/g 的 SiC-B。

二、数控平面磨床

  CVD-SiC 样品可使用数控平面磨床进行研磨。通过使用不同结合剂的金刚石砂轮，如 SD4000-M 轮、树脂结合剂砂轮等，可以在不进行抛光处理的情况下获得光滑的表面粗糙度和高轮廓精度。SD4000-M 轮可在 CVD-SiC 样品上进行研磨而不会在成品表面产生断裂，表面粗糙度为 3nm Ra，轮廓精度为 0.3μm。树脂结合剂砂轮虽然可以更容易地获得更平滑的表面粗糙度，但由于砂轮变形，轮廓精度限制在 0.9μm。磨损的 SD2000-M 轮也可以在 CVD-SiC 样品上进行延性模式研磨。研磨表面上的表面断裂率强烈取决于金刚石磨粒的粒度以及进给量和切削深度。

三、光纤研磨机

针对光纤研磨机的碳化硅研磨液过滤搅拌循环系统存在的问题进行改进后，光纤研磨机可实现研磨液自动搅拌循环，提高研磨液的利用率，减少杂质和人工成本，使设备性能得到进一步改善。虽然没有明确提及该研磨机直接对碳化硅样品的研磨方式，但可以推断其在碳化硅研磨过程中可能起到一定的作用。

四、超精密表面磨床

化学气相沉积碳化硅（CVD-SiC）是高亮度同步辐射光束线反射镜的最重要材料，但该材料极难加工。为了减少制作 CVD-SiC 反射镜的加工时间，可使用超精密表面磨床进行研磨。例如，使用树脂结合剂金刚石砂轮和具有极低热膨胀的玻璃陶瓷主轴的超精密表面磨床，可将 CVD-SiC 样品研磨至表面粗糙度为 0.4nm rms。研磨后的样品表面粗糙度可使用 TOPO-3D 和 AFM 进行测量，在波长为 0.834nm 的 X 射线以 0.7 - 0.95 度的掠入射角下，研磨后的 CVD-SiC 平面表面可获得 88.7% 的反射率。反射率取决于入射光束方向与样品上研磨痕迹之间的角度.

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